開創記憶體產業新機 工研院/Intel攜手合作

作者: 莊惠雯
2011 年 12 月 07 日

工研院與英特爾(Intel)簽署新架構記憶體合作協議,可望振興台灣記憶體產業。為解決未來高運算量行動裝置記憶體與中央處理器(CPU)資料傳輸所造成的大量能源消耗,英特爾與經濟部和工研院合作,開發下世代記憶體技術,除因應市場需求變化外,未來此新記憶體研發成果,亦有助強化台灣記憶體製造商的競爭力。


左起為工研院資訊與通訊研究所所長吳誠文、經濟部技術處處長吳明機、英特爾副總裁暨技術長Justin Rattner




經濟部技術處處長吳明機表示,英特爾與工研院的新世代記憶體研發,在未來3~5年內,勢必可展現成果,屆時台灣記憶體相關業者也可第一時間獲得最新的記憶體與CPU的三維(3D)堆疊,以及更高效能、更節能的記憶體研發技術,進一步拉抬台灣廠商在全球記憶體市場地位。


未來可攜式裝置,尤其手機、平板裝置(Tablet Device),所須處理的資料量將持續暴增,記憶體與中央處理器之間的大量資料傳遞將成為耗電最高的部分,因此全球皆致力於解決此問題,並冀望透過3D矽穿孔(TSV)堆疊方式將記憶體與CPU之間的距離縮短,再利用不同於以往的全新記憶體架構,提高記憶體的傳輸速率、容量與效能。


工研院資訊與通訊研究所所長吳誠文指出,新的記憶體架構可滿足未來行動裝置所需,且工研院可主導新世代記憶體的專利授權,對台灣廠商而言將是極大的優勢。若台灣IC或記憶體製造商也能在研發階段加入此合作計畫,更可掌握最新的記憶體技術發展動態,擺脫以往技術落後其他記憶體大廠的情況。


針對三方合作的內容,英特爾副總裁暨技術長Justin Rattner表示,未來英特爾、工研院與經濟部將於5年內各投注500萬美元資金;英特爾還將提供CPU與現有的記憶體技術;而工研院則進行新記憶體架構與3D堆疊技術的研發,以達成記憶體、CPU資料傳遞速度與耗電的最佳平衡,並簡化設計,使下游記憶體製造商更易進行新世代記憶體的製造。

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